理想中(圖左)電子在導體中以平均分佈的方式傳導流通,集膚效應(圖右)則是電子集中在導體的近外膚位置上流通,使橫切面的核心部位呈現空泛狀態,進而使電流輸送量減少。
集膚效應(又稱趨膚效應或直譯作表皮效應,英語:Skin effect)是指導體中有交流電或者交變電磁場時,導體內部的電流分布不均勻的一種現象。隨着與導體表面的距離逐漸增加,導體內的電流密度呈指數衰減,即導體內的電流會集中在導體的表面。從與電流方向垂直的橫切面來看,導體的中心部分幾乎沒有電流流過,只在導體邊緣的部分會有電流。簡單而言就是電流集中在導體的「皮膚」部分,所以稱為集膚效應。產生這種效應的原因主要是變化的電磁場在導體內部產生渦旋電場,與原來的電流相抵消。
集膚效應最早在英國應用數學家賀拉斯·蘭姆(Horace Lamb)1883年發表的一份論文中提及,只限於球殼狀的導體。1885年,英國物理學家奧利弗·赫維賽德(Oliver Heaviside)將其推廣到任何形狀的導體。集膚效應使得導體的電阻隨着交流電的頻率增加而增加,並導致導線傳輸電流時效率減低,耗費金屬資源。在無線電頻率的設計、微波線路和電力傳輸系統方面都要考慮到集膚效應的影響。
當單色平面電磁波從真空垂直射入表面為平面的無限大導體中時,隨着與導體表面的距離逐漸增加,導體內的電流密度J呈指數衰減
![{\displaystyle J=J_{0}\exp(-{x \over \delta })}](https://wikimedia.org/api/rest_v1/media/math/render/svg/4d3069440412275a459460857d7fb9c06de0a735)
其中,
是導體表面的電流密度,
表示電流與導體表面的距離,
是一個和導體的電阻率以及交流電的頻率有關的係數,稱為集膚深度(skin depth)。
![{\displaystyle \delta ={\sqrt {{2\rho } \over {\omega \mu }}}}](https://wikimedia.org/api/rest_v1/media/math/render/svg/2b104b2383af7eb4ecac1242cf93a3b35ac49bc4)
其中:
- ρ =導體的電阻率
- ω = 交流電的角頻率 = 2π ×頻率
- μ = 導體的磁導率 =
,其中
是真空磁導率,
是導體的相對磁導率
對於很長的圓柱形導體,比如導線來說,如果它的直徑
比
大很多的話,它對於交流電的電阻將會相當於一個中空的厚度為
的圓柱導體對直流電的電阻。
![{\displaystyle R={{\rho \over \delta }\left({L \over {\pi (D-\delta )}}\right)}\approx {{\rho }\left({L \over {\pi D\delta }}\right)}}](https://wikimedia.org/api/rest_v1/media/math/render/svg/eeba8746620d9ccbaecb44cf4709e8b7bb911b6e)
其中:
- L=導線的長度
- D=導線直徑
具體來說,假設
是從離導線中心r處到導線表面的截面上通過的電流,
為截面上的總電流,那麼有:
![{\displaystyle {\frac {I(r)}{I}}={\frac {Ber({\frac {{\sqrt {2}}\,a}{\delta }})-Ber({\frac {{\sqrt {2}}\,r}{\delta }})+i\,[Bei({\frac {{\sqrt {2}}\,a}{\delta }})-Bei({\frac {{\sqrt {2}}\,r}{\delta }})]}{Ber({\frac {{\sqrt {2}}\,a}{\delta }})+i\,Bei({\frac {{\sqrt {2}}\,a}{\delta }})}}}](https://wikimedia.org/api/rest_v1/media/math/render/svg/68e640d42347c4a8b9df85f2085e2b2004cd465b)
其中Ber和Bei為0階的開爾文-貝塞爾函數的相應原函數(具體見下)。
考慮一個半徑為a,長度無限大的圓柱形導體。假設電磁場是時變場,則在圓柱中有頻率為ω的正弦交流電流。由麥克斯韋方程組,
麥克斯韋-法拉第方程:
![{\displaystyle \nabla \times \,\mathbf {E} =-i\,\omega \,\mathbf {B} }](https://wikimedia.org/api/rest_v1/media/math/render/svg/67ad12486873bde2484ed453bda959328923e82c)
麥克斯韋-安培方程:
![{\displaystyle \nabla \times \,\mathbf {B} =\mu _{0}\mathbf {J} }](https://wikimedia.org/api/rest_v1/media/math/render/svg/d51936cd1e5849ee75a07b81aee28b5e2a3708af)
其中:
在導體中,歐姆定律的微分形式為:
![{\displaystyle \mathbf {J} =\sigma \,\mathbf {E} }](https://wikimedia.org/api/rest_v1/media/math/render/svg/5729fb29e62c2e13b963af9753c5150755e9135f)
σ是導體的電導率。
我們假設導體是均勻的,於是導體各處的μ和σ都相同。於是有:
![{\displaystyle \nabla \times \,\mathbf {J} =-i\,\omega \,\sigma \,\mathbf {B} }](https://wikimedia.org/api/rest_v1/media/math/render/svg/530b220ca5240c069d93df40236fb119837a27b0)
![{\displaystyle \nabla \times \,\mathbf {B} =\mu \,\mathbf {J} }](https://wikimedia.org/api/rest_v1/media/math/render/svg/cdacc6032ebb6ee630c80921c978769ae094f751)
在圓柱坐標系(r, θ, z)(z為圓柱導體的軸心)中,設電磁波隨z軸前進,由對稱性,電流密度是一個只和r有關的函數:
![{\displaystyle \mathbf {J} ={\begin{pmatrix}0\\0\\j(r)\end{pmatrix}}}](https://wikimedia.org/api/rest_v1/media/math/render/svg/b8c16e0561423b78f6beab25e0615137c525c1b7)
取麥克斯韋-法拉第方程兩邊的旋度,就有:
![{\displaystyle \nabla \times \,(\nabla \times \,\mathbf {J} )=-i\,\omega \,\sigma \,(\nabla \times \,\mathbf {B} )}](https://wikimedia.org/api/rest_v1/media/math/render/svg/2d9b69707c0029d50e1f63cfdc4f9731de6db509)
也就是:
![{\displaystyle \nabla \,\mathrm {div} \,\mathbf {J} -\Delta \mathbf {J} =-i\,\omega \,\sigma \,\mu \,\mathbf {J} }](https://wikimedia.org/api/rest_v1/media/math/render/svg/a1a8ca3b8f774ae23bd1ffe6002fff7758750cc8)
由之前對電流密度的假設,
,因此有:
![{\displaystyle \Delta \mathbf {J} =i\,\omega \,\sigma \,\mu \,\mathbf {J} }](https://wikimedia.org/api/rest_v1/media/math/render/svg/c5f5a80affc0feb3a04c68f7c38e1ee2f671d92d)
在圓柱坐標系中,拉普拉斯算子
寫作:
![{\displaystyle {\frac {d^{2}\,j}{dr^{2}}}(r)+{\frac {1}{r}}\,{\frac {d\,j}{dr}}(r)=i\,\omega \,\sigma \,\mu \,j(r)}](https://wikimedia.org/api/rest_v1/media/math/render/svg/726937184713ab5d738d4a94b3cd1eed72dda51e)
令
,再將方程兩邊乘上r2就得到電流密度應該滿足的方程:
![{\displaystyle r^{2}\,{\frac {d^{2}\,j}{dr^{2}}}(r)+r\,{\frac {d\,j}{dr}}(r)-r^{2}\,k^{2}\,j(r)=0}](https://wikimedia.org/api/rest_v1/media/math/render/svg/60700373c80c5a7c8807e534f4653000a3ad6546)
在進行代換
後,方程變為一個齊次的貝塞爾方程:
![{\displaystyle \xi ^{2}\,{\frac {d^{2}\,j}{d\xi ^{2}}}(\xi )+\xi \,{\frac {d\,j}{d\xi }}(\xi )+\xi ^{2}\,j(\xi )=0}](https://wikimedia.org/api/rest_v1/media/math/render/svg/17d4d1e69b94e6e903f4db97c307c6f49e7e89dc)
由電流密度在r = 0的連續性,方程的解具有
的形式,其中J0是零階的第一類貝塞爾函數。於是:
![{\displaystyle j(r)=j_{0}\,J_{0}(i\,k\,r)}](https://wikimedia.org/api/rest_v1/media/math/render/svg/6c47c0ae847561458935e8e2600bc020cc2a6518)
其中j0是一個常數,k為:
![{\displaystyle k={\sqrt {i}}\,{\sqrt {\omega \,\sigma \,\mu }}={\frac {1+i}{\sqrt {2}}}\,{\sqrt {\omega \,\sigma \,\mu }}={\frac {1+i}{\delta }}}](https://wikimedia.org/api/rest_v1/media/math/render/svg/85381e1eb05145702befec52c568483aee5bb962)
其中δ是集膚深度,
,
![{\displaystyle i\,k={\frac {-1+i}{\delta }}=e^{i\,3\,\pi /4}\,{\frac {\sqrt {2}}{\delta }}}](https://wikimedia.org/api/rest_v1/media/math/render/svg/c022aa6219026518dd6aabc8999a703d7a17c935)
最後,電流密度為:
![{\displaystyle {\begin{matrix}j(r)&=&j_{0}\,J_{0}(e^{i\,3\,\pi /4}\,{\frac {{\sqrt {2}}\,r}{\delta }})\\&=&j_{0}\,(ber({\frac {{\sqrt {2}}\,r}{\delta }})+i\,bei({\frac {{\sqrt {2}}\,r}{\delta }}))\end{matrix}}}](https://wikimedia.org/api/rest_v1/media/math/render/svg/0331c1b5c982ac6b00e24b5671c0c879011736dd)
其中ber和bei是0階的開爾文-貝塞爾函數。
於是通過整個截面的電流總和就是:
![{\displaystyle {\begin{matrix}I&=&\int _{0}^{a}j(r)\,2\,\pi \,r\,dr\\&=&2\,\pi \,j_{0}\int _{0}^{a}J_{0}(e^{i\,3\,\pi /4}\,{\frac {{\sqrt {2}}\,r}{\delta }})\,r\,dr\\&=&\pi \,\delta ^{2}\,j_{0}\,\int _{0}^{{\sqrt {2}}\,a/\delta }(ber(x)+i\,bei(x))\,x\,dx\end{matrix}}}](https://wikimedia.org/api/rest_v1/media/math/render/svg/719b17e641147bd035329337bb96e25ae5801da2)
記Ber和Bei為相應的原函數:
![{\displaystyle Ber(x)=\int _{0}^{x}ber(x^{\prime })\,x^{\prime }\,dx^{\prime }\qquad {\mbox{ et }}\qquad Bei(x)=\int _{0}^{x}bei(x^{\prime })\,x^{\prime }\,dx^{\prime }}](https://wikimedia.org/api/rest_v1/media/math/render/svg/1749795be45a1fb138699208e706c3e8836864f4)
便有如下更簡潔的形式:
![{\displaystyle I=\pi \,\delta ^{2}\,j_{0}\,\left(Ber({\frac {{\sqrt {2}}\,a}{\delta }})+i\,Bei({\frac {{\sqrt {2}}\,a}{\delta }})\right)}](https://wikimedia.org/api/rest_v1/media/math/render/svg/82df5b6e4a7649023ba9e4ccf93b81e85d9bd148)
我們還可以計算從圓柱表面到離軸心距離r處的電流總和:
![{\displaystyle {\begin{matrix}I(r)&=&\int _{a-r}^{a}j(r^{\prime })\,2\,\pi \,r^{\prime }\,dr^{\prime }\\&=&\pi \,\delta ^{2}\,j_{0}\,\left(Ber({\frac {{\sqrt {2}}\,a}{\delta }})-Ber({\frac {{\sqrt {2}}\,r}{\delta }})+i\,[Bei({\frac {{\sqrt {2}}\,a}{\delta }})-Bei({\frac {{\sqrt {2}}\,r}{\delta }})]\right)\end{matrix}}}](https://wikimedia.org/api/rest_v1/media/math/render/svg/010a9cb5827793c611695150bf5ae768ce14c931)
於是有電流的分布函數:
![{\displaystyle {\frac {I(r)}{I}}={\frac {Ber({\frac {{\sqrt {2}}\,a}{\delta }})-Ber({\frac {{\sqrt {2}}\,r}{\delta }})+i\,[Bei({\frac {{\sqrt {2}}\,a}{\delta }})-Bei({\frac {{\sqrt {2}}\,r}{\delta }})]}{Ber({\frac {{\sqrt {2}}\,a}{\delta }})+i\,Bei({\frac {{\sqrt {2}}\,a}{\delta }})}}}](https://wikimedia.org/api/rest_v1/media/math/render/svg/68e640d42347c4a8b9df85f2085e2b2004cd465b)
一般來說,在給定的頻率下,使得導線對交流電的電阻增加百分之十的直徑大約是:
![{\displaystyle D_{\mathrm {W} }={\frac {200~\mathrm {mm} }{\sqrt {f/\mathrm {Hz} }}}}](https://wikimedia.org/api/rest_v1/media/math/render/svg/45efbc5230eeeba2b88480974691c212d16af9f6)
以上的導線對交流電的電阻只對於孤立的導線成立。對於兩根鄰近的導線,交流電阻會受到鄰近效應的影響而顯著增大。
一種減緩集膚效應的方法是採用所謂的利茲線(源自德語:Litzendraht,意為「編織起來的線」)。利茲線採用將多條金屬導線相互纏繞的方法,使得電磁場能夠比較均勻地分布,這樣各導線上的電流分布就會較為平均。使用利茲線後,產生顯著集膚效應的頻率可以從數千赫茲提高到數兆赫茲。利茲線一般應用在高頻交流電的傳輸中,可以同時減緩集膚效應和鄰近效應。
高電壓大電流的架空電力線路通常使用鋼芯鋁絞線,這樣能使鋁質部分的工作部分溫度降低,減低電阻率,並且由於集膚效應,電阻率較大的鋼芯上承載極少的電流,因而無關緊要。
還有將實心導線換成空心導線管,中間補上絕緣材料的方法,這樣可以減輕導線的重量。
在傳輸的頻率在甚高頻或微波級別時,一般會使用鍍銀(已知的除超導體外最好的導體)的導線,因為這時集膚深度非常的淺,使用更厚的銀層已是浪費。
集膚效應使交流電只通過導體的表面,因此電流只在其表面產生熱效應。鋼鐵工業中利用集膚效應來為鋼進行表面淬火,使鋼材表面的硬度增大。
集膚效應也可以描述為:導體中變電磁場的強度隨着進入導體的深度而呈指數遞減,因此在防曬霜中混入導體微粒(一般是氧化鋅和氧化鈦),就能使陽光中的紫外線(高頻電磁波)的強度減低。這便是物理防曬的原理之一。此外,集膚效應也是電磁屏蔽的方法之一,利用集膚效應可以阻止高頻電磁波透入良導體而作成電磁屏蔽裝置[1],這也是電梯裡手機信號不好的原因。
頻率為10 GHz(微波)時各種材料的集膚深度:
導體 |
δ(μm)
|
鋁 |
0.80
|
銅 |
0.65
|
金 |
0.79
|
銀 |
0.64
|
在銅質導線中,集膚深度和頻率的關係大致如下:
頻率 |
δ
|
60 Hz |
8.57 mm
|
10 kHz |
0.66 mm
|
100 kHz |
0.21 mm
|
1 MHz |
66 µm
|
10 MHz |
21 µm
|
- William Hart Hayt, Engineering Electromagnetics Seventh Edition, (2006), McGraw Hill, New York ISBN 0073104639
- Paul J. Nahin, Oliver Heaviside: Sage in Solitude, (1988), IEEE Press, New York, ISBN 0879422386
- Terman, F.E. Radio Engineers' Handbook, McGraw-Hill 1943 -- for the Terman formula mentioned above
- ^ 林漢年. 《電磁相容分析與設計 : 從PI與SI根因探討》. 滄海圖書. 2021: 第B–3頁. ISBN 9789865647735.