File:EVG 120 resist coater-developer at LAAS 0434.jpg
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原始文件 （3,872 × 2,592像素，文件大小：4.24 MB，MIME类型：image/jpeg）
摘要
| 描述 |
English: EVG 120 fully automated photoresist coater-developer under inactinic light at LAAS-CNRS technological facility in Toulouse, France.
Français : Machine EVG 120 d'enduction et révélation automatisée de résine photosensible sous lumière inactinique à la centrale de technologie du LAAS-CNRS à Toulouse, France. |
| 日期 | |
| 来源 | 自己的作品 |
| 作者 | Guillaume Paumier (user:guillom) |
| 授权 (二次使用本文件) |
Own work, attribution, share-alike: Multi-license with GFDL and Creative Commons CC-BY-SA-3.0 |
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- Printed publications: guillaumepaumier.com, CC-BY.
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| 日期/时间 | 缩略图 | 大小 | 用户 | 备注 | |
|---|---|---|---|---|---|
| 当前 | 2007年11月12日 (一) 09:23 | | 3,872 × 2,592（4.24 MB） | Guillom | ==Description== {{Information |Description={{en|EVG 120 fully automated en:photoresist coater-developer under en:inactinic light at fr:LAAS-CNRS technological facility in Toulouse, France.}} {{fr|Machine EVG 120 d'e |
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